进入本章内容前,请充分复习线性代数中线性变换与矩阵表示的相关内容
# 结构方程
以下令正则曲面 (S,n) 正向参数化 σ:D→S
固定点 p=σ(u,v)∈S
对切空间 TpS 进行代数式分析,基于 Gram–Schmidt 正交化构造正交归一基底 A={ε1,ε2,ε3}
ε1=∣σu∣σu,ε2=∣σv−(σv⋅ε1)ε1∣σv−(σv⋅ε1)ε1,ε3=n
称 A 为伴随 σ 的 活动标架 (Moving Frame)「動標構」
Carton Darboux 在曲率计算研究中,引入活动标架用于将复杂的曲率计算转为简单的代数计算,此标架也称 Carton 标架
以下通过坐标转换,获取 Carton 标架下的坐标
由于 σu,σv⊥n,其在 ε3 方向的投影为 0,所以有
{σu=a11ε1+a12ε2+0⋅ε3σv=a21ε1+a22ε2+0⋅ε3⟹[σu]A=⎝⎛a11a120⎠⎞,[σv]A=⎝⎛a21a220⎠⎞
其中 a1j=σu⋅εj,a2j=σv⋅εj(j=1,2)
a 的下标指示偏导方向编号,上标指示基底方向编号
由于重点在于分析二维切空间中的表现,去掉垂直于切空间的方向,令
A=(a11a12a21a22)
则 A 成为二维空间内两种基底的过渡矩阵
(σu,σv)=(ε1,ε2)A
并且此时
σu×σv=det(A)e1×e2=det(A)n∣σu×σv∣=det(A)=EG−F2
进一步,为了获取 Carton 标架下的坐标,在 TpS 上定义构造坐标函数 du,dv 与微分形式,令 θj=a1jdu+a2jdv(j=1,2),则
(θ1θ2)=A(dudv)
这其实是坐标变换,由于 A 是 (ε1,ε2) 到 (σu,σv) 的过渡矩阵
所以等式右边是 (σu,σv) 下的坐标经过坐标函数映射后的结果
等式左边是 Carton 标架下的坐标
此时全微分
dσ=σudu+σvdv=(σu,σv)(dudv)=(ε1,ε2)A(dudv)=(ε1,ε2)(θ1θ2)=θ1e1+θ2e2
θj 具有以下计算性质
命题
θ1∧θ1=θ2∧θ2=0
θ1∧θ2=θ2∧θ1=det(A)du∧dv
活动标架的关键是 活动,对于曲面上的点 p,在其沿曲面移动时,活动标架会 不同程度的移动
依此,曲面研究的重点:曲率 转化为活动标架的变化情况
定义 联络:ωij=dεi⋅εj(i,j=1,2,3)
显然 ωij 指示两个活动标架之间的变化关系,并且存在固定方向,非对称性继承于楔积
dεi=ωi1ε1+ωi2ε2+ωi3ε3
联络具有以下性质
命题
ωii=0,ωij=−ωji
借助 TpS 形算子 Σp:TpS→TpS,定义 bij=εi⋅Σp(εj)(i,j=1,2),构造矩阵
B=(b11b21b12b22)
依据形算子的自伴性有:bij=bji,tB=B
由于 Σp(εi) 也处于基底 (ε1,ε2) 所在的切空间内,取内积得到坐标 Σp(εi)=b1jε1+b2jε2
进一步
(Σp(e1),Σp(e2))=(e1,e2)B
所以 B 是线性映射 Σp 关于基底 (e1,e2) 的矩阵表示,B 的特征值 λ1,2 即为主曲率
K=det(B),H=21tr(B),κ1,2=λ1,2
至此,曲率计算已完全转变为矩阵计算
特别地,联络的计算性质如下
命题
ω13=b11θ1+b12θ2,ω23=b21θ1+b22θ2
并且得到以下结构方程
定理 结构方程
dθ1=−ω21∧θ2,dθ2=−ω12∧θ1
dω21=K⋅θ1∧θ2
其中 K 为 Gauss 曲率
# Riemannian 度规
回到常见的 R2
以下令开集 D⊂R2
定点 q=(vu)∈D
切空间 TqD=R2
正交归一标准基底 e1=(01),e2=(10)
定义
对于 ξ,η∈TqD
若函数 g 定义为
g(q,ξ,η)=gq(ξ,η)∈R2
满足
- 对任意 q∈D,gq 成为 TqD 上的内积,即满足:正定,对称,线性
- g 关于 q 成为 D 上的 C∞ 光滑函数
则称 g 为 Riemannian 度规 (Riemannian Metric)「リーマン計量」
若 g 为 Riemannian 度规
gq(ξ,η)=gq(ξ1e1+ξ2e2,η1e1+η2e2)=i,j=1∑2ξiηjgq(ei,ej)
其中
ξ=(ξ2ξ1),η=(η2η1)
由此有基于 Riemannian 度规的基本量(注意 q=(vu),与内积的对称性)
⎩⎪⎪⎨⎪⎪⎧E(q)=gq(e1,e1)F(q)=gq(e1,e2)=gq(e2,e1)G(q)=gq(e2,e2)
那么
gq(ξ,η)=(ξ1,ξ2)(EFFG)(η1η2)=tξ(EFFG)η
因为 E,F,G 在 D 上光滑,所以由内积的正定性得到:对于任意 q∈D,
(E(q)F(q)F(q)G(q))
都为正定对称矩阵:EG−F2>0,E>0
反过来,如果 D 上的函数 E,F,G 满足上述正定条件且光滑,那么
gq(ξ,η)=tξ(E(q)F(q)F(q)G(q))η
成为 D 上的 Riemannian 度规
示例
简单地令 gq(ξ,η)=ξ⋅η 为 Euclidean 内积
那么 g 成为 D 上的 Riemannian 度规,称为 Euclidean 度量
示例
令
H={(vu)∈R2∣v>0},gq(ξ,η)=v2ξ⋅η
那么 g 成为 H 上的 Riemannian 度规,称为 Poincaré 度量
证明
计算即得
gq(ξ,η)=tξ(v2100v21)η
EG−F2=v41>0,E=v21>0
实际应用中,往往需要从曲面的参数化中导出 Riemannian 度规
令 S 为 R3 中的正则曲面,参数化 σ:D→S,定义
gqσ(ξ,η)=(dσ)q(ξ)⋅(dσ)q(η)=(σuξ1+σvξ2)⋅(σuη1+σvη2)
利用第一基本量,也可以写作
gqσ(ξ,η)=E(q)ξ1η1+F(q)(ξ1η2+ξ2η1)+G(q)ξ2η2=tξ(E(q)F(q)F(q)G(q))η
基于第一基本量的性质,可以得到 EG−F2>0,E>0
所以 g 成为 D 上的 Riemannian 度规
以下令 g 为 D 上的 Riemannian 度规,定义内积与范数
⟨ξ,η⟩q:=gq(ξ,η),∥ξ∥q:=gq(ξ,ξ)
此时,将 ∂1,∂2∈D 关于内积 (⋅)q 正交归一化,得到 TqD 上的正交归一基底,实为 活动标架 的二维版本
ε1(q)=∥e1∥qe1=E(q)1e1,ε2(q)=∥e2−(e2,ε1)qε1(q)∥qe2−(e2,ε1)qε1(q)=EG−F21(−EFe1+Ee2)
因此,对于任意 ξ,η∈TqD,有唯一表示
{ξ=ξ1ε1(q)+ξ2ε2(q)η=η1ε1(q)+η2ε2(q)
且内积与范数为
⟨ξ,η⟩q=⟨ξ1ε1(q)+ξ2ε2(q), η1ε1(q)+η2ε2(q)⟩q=ξ1η1+ξ2η2
∥ξ∥q=⟨ξ,ξ⟩q=ξ12+ξ22
即在活动标架下,内积与欧氏内积相同
注意:在 g=gσ 时,dσq(εi)=ei
取活动标架下的坐标 (θ2θ1), θj=a1jdu+a2jdv,对于过度矩阵 A
(e1 e2)=(ε1 ε2)A⟹A=(ε1 ε2)−1
(θ2θ1)=A(dvdu)
所以,活动标架下的线性结合得以转为微分形式
θ1ε1+θ2ε2=(ε1 ε2)(θ2θ1)=A−1A(dvdu)=(dvdu)
特别地,由于分析对象是二维空间,仅考虑前两个活动标架的联络 ω21
命题
∃!ω21 为 D 上的微分 1 形式,使得
dθ1=−ω21∧θ2,dθ2=ω12∧θ1
证明
令 ω21=fdu+gdv,计算验证
ω21=(f g)(dvdu)=(f g)(ε1 ε2)(θ2θ1)=f~θ1+g~θ2
其中 (f~ g~):=(f g)(ε1 ε2)
所以
ω21∧θ2=f~θ1∧θ2=f~detAdu∧dv
ω21∧θ1=−g~θ1∧θ2=−g~detAdu∧dv
令 dθj=hjdu∧dv,则
dθ1=−ω21∧θ2⇔h1=−f~detA
dθ2=ω12∧θ1⇔h2=g~detA
解得
f~=−detAh1,g~=detAh2
由 (f~ g~)=(f g)(ε1 ε2) 可唯一确定 f,g,从而唯一确定 ω21
利用 ω21,可以得到 Riemannian 度规下的 Gauss 曲率定义
由 dω21=Kθ1∧θ2 导出的 K 称为 g 的 Gauss 曲率
当 g=gσ 时,K 即为曲面 S 在点 σ(q) 处的 Gauss 曲率
示例
在 Poincaré 度量下
展开
ε1=gq(∂1,∂1)∂1=Ev=(0v),ε2=gq(∂2,∂2)∂2=Gv=(v0)
A=(ε1 ε2)−1=(v100v1)
(θ2θ1)=A(dvdu)=(v100v1)(dvdu)=(vdvvdu)
令 ω21=fdu+gdv
{dθ1=−v21du∧dv=−ω21∧θ2=−(fdu+gdv)∧vdv=−vfdu∧dvdθ2=−v21dv∧du=ω21∧θ1=(fdu+gdv)∧vdu=vgdv∧du⟹{f=−v1g=0
所以 ω21=−v1du,求得全微分
dω21=−d(v1)∧du=v−2dv∧du=−v21du∧dv
另一边由楔积求得
θ1∧θ2=v21du∧dv
因此 K=−1